某智能元集合集成电路板芯片研发中小企业公司地处长三角型沿海地区，通常分娩集合集成电路板板、半导体行业构件等设备。在分娩环节中，食用氢氧化钠参与硅片洗涤和蚀刻，带来很多含氟废水加工处理方法。在当地的环保节能追求要严，氟化物排放物最大限度为8mg/L，中小企业公司急要建没专业的加工处理安全设施。 废液组分及来源于 废污水重点来源6个基本原则：硅片酸洗磷化制作工艺（氟氧质量密度120-150mg/L）、环保设备清洁水（氟氧质量密度80-100mg/L）以其生产车间大理石地面拆洗水（氟氧质量密度30-50mg/L）。除氟化物外，废污硫酸铜溶液还有效轻微高价属（铜、镍）、生产物（异丙醇）及腐蚀性有害物质，pH值振幅在2-4左右。 治理工艺设计步骤流程 采用了"预除理+物理奠定+深度1净化系统"三人组合的工艺： 设定池 ：持续各产线废液，参与污水水质蓄水量义均，pH调结至6- 混凝土放置 ：加药系统氯化钙（CaCl₂）和缩聚氯化铝（PAC），导致氟化钙奠定 二沉池作用 ：建立聚乙烯塑料酰胺（PAM）增进絮体沉降性能参数 斜板乳浊液池 ：保证固液区分，上清液走进下一制作工艺 活性氧炭粘附 ：的还原农药残留有机化学物和进样器天价属 砂滤设备 ：进十步截流悬屏物 pH乖离率指标 ：确保留水pH在6-9的范围内 最终能够效用 平台稳定可靠运营后验测数据信息显视：氟化物酸度从手表进水对数正态分布110mg/L减至5.2mg/L，除去率达95.3%；COD从85mg/L减至20mg/L以上；天价属含铁均大于释放口细则。品牌代价约280W，吨水补救代价3.8元，完成满足需要《污水处理整体释放口细则》（GB8978-1996）两级细则。