某半导体设备集成电路芯片生形成产厂在晶圆生产的过程中，食用硅烷展开硅概念生长的，尾气排放洗洁塔形成高氧浓度含硅焦化化工废水。焦化化工废水还具有pH起伏较大大（2-11）、硅含铁高的结构特征，传统式工作形式易出现了硅垢淤塞状况。 污水组分及源 废液最主要成分表为： 水解性硅酸盐 ：SiO₂氧浓度达1000-1500mg/L 氢氧化反应钾/氢氧化反应钠 ：洗衣剂塔腐蚀性洗衣剂液余留 颗粒剂硅 ：奈米级SiO₂溶液 痕量砷 ：制造原材料杂质残渣带 解决工艺方法方法 转型升级所采用"有级结合+膜过虑+蒸发掉成果"流程： 4级与 ：用CaO调高pH至4-5，自动生成硅酸钙放置，硅洗去率60%。 一级与 ：加Na₂CO₃将pH提高至9，进两步析出其他硅，串联用镁剂除砷。 超滤膜整体 ：0.02μm瓷质膜净化納米级硅粉末，通量平稳在80LMH。 MVR空调蒸发器器 ：沉淀高盐废污水，成果出Na₂SO₄副车辆，水回收率超90%。 结果是视觉效果 总硅从1500mg/L降为5mg/L以內 砷份量从0.8mg/L下降0.01mg/L 设备无积灰运动多于2年 每次收购 磷酸钠单晶体约800吨