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电子半导体废水怎么处理|电子半导体废水如何处理

该晶圆打造厂应用于豫东地段,注意的生产方式85英寸半导体器件晶圆,单日电镀废水废气排股票放量约800吨。可能的生产方式的时候中用一大批盐酸实行晶圆蚀刻,造成 电镀废海里氟化物溶度超过200-300mg/L,远超国家废气鑫霖环保的标准的(10mg/L下类)。 污废水 有效成分及种类 生活污水主耍存在这三个环节: 晶圆蚀刻道工序 :含高氧浓度氟化物(HF)、氰化钠及少许血本属 药剂学物理磨光(CMP)焦化废水 :含nm级硅颗粒物、可挥发络合剂 专用设备的清洗废水处理方法 :含异丙醇、高锰酸盐指数等生物碳物 净化处理方法步骤 所采用"生物放置+混泥土放置+厚度油烟净化器"三级分销净化处理设计: 一个处理 :添加氯化钙和氢空气氧化钙,转变成氟化钙沉积,氟化物快速清理率达85% 特殊清理 :含有PAC(配位聚氯化铝)和PAM(pp聚丙烯酰胺),删去氢氧化铁态污染源物 3级除理 :完成多媒质吸附性器和活性酶类炭吸附性,喷水氟化物溶液浓度平稳在8mg/L以内 重要性机械设备涵盖:pH自动化调低系统性、斜管沉定池、板框压滤机厂家(工业废水脱水情况)。 终于的效果 建设项目运营几年数据监测源数据源表明: 氟化物均衡浓度值:7.2mg/L(降到的国家标) COD清理率:92% 飞灰水分含量率:≤65% 年环保再生能源回收氟化钙副软件约150吨,改变能源化再生利用

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