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半导体含氟废水处理案例|半导体含氟废水处理方法

业务游戏背景 该半导体设备打造的公司企业是在华东东南部东南部,最主要出产ibms三极管治理器,日进行排放标准规定含氟污废水 治理约800吨。在偏远地区环保型标准规定加快,以往治理配套设施不了达到氟化物进行排放标准规定酸度远低于5mg/L的新规定要求,的公司企业投入资金14000万元新创建工程专业含氟污废水 治理治理系统化。 工业废水组分及种类 废水处理首要的来起源于集成块制作整个过程中的刻蚀程序和的洗涤程序,首要环保问题物还有: 氟阴阳离子渗透压:300-800mg/L pH值:2- 带有少量出硅酸盐、磷酸 进样器血本属如铜、镍等 正确处理加工过程操作流程 采取"预加工+生物沉淀物+深度.加工"组合名字生产技术: 调结池:均衡化土质需水量,设备pH迅雷环境监测器 4级体现池:加药系统氢阳极氧化钙,把控pH至7-8,型成氟化钙放置 特一级凝固池:凝固分割氟化钙工业废水 一级反响池:加药氯化钙和配位聚氯化铝,进几步彻底清除残渣氟亚铁离子 2级滤渣物中池:二级滤渣物中隔离 砂滤系统化:除去悬浮按钮物 活性炭吸附性炭活性炭吸附:出掉设计物和进样器血本属 污泥处理干化处理整体:板框压滤脱水处理,污泥处理干化含水分率降落到60%以下的 终于疗效 机系统使用维持后,留水水的硬度: 氟阴离子酸度:2.1-3.8mg/L pH值:6.5-7. SS<5mg/L 高价属含量的均压低验出限 完整无法《电子无线工业生产水被污染源排污的标准的标准》(GB39731-2020)规定,常年才能减少氟化物排污的标准约180吨。

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